共同研究
為了實現高附加值事業
為了通過高效且快速地推廣研發成果,實現高附加值事業,與邊緣領域及廣域等不同領域的技術的融合很重要,因此積極致力于與國內外大學、不同行業企業進行技術合作,力求形成作為新一代技術的COE基地。
與不同行業企業、國內外大學等的合作
通過與大學共同研究獲得的最近的成果論文
- "Magnetic Alignment of Magnetically Isotropic Rod-like Particle in Modulated Magnetic Field " Jpn. J. Appl. Phys., 46(2), 586-588(2007)
- "Magnetic Alignment of Rhodamine B Intercalated in Somasif" Macromol. Symp., 242(1), 120-125(2006)
- "Fabrication of photo-cross linked honeycomb-patterned films " Coll. and Surf. A, 284-285, 254-256(2006)
- "Formation of Contact Holes on Bumps on Semiconductor Chip by Micro-Moses Effect" Adv. Mater., 18, 1549-1551(2006)
- "Robust free-standing nanomenbranes of organic/inorganic interpenetration networks" Nature Mat., Vol. 5, 494-501(2006)
- "Eddy-Current-Induced Magnetic Alignment of Electroconductive Particles under Rotating Magnetic Field" T. Kimura, T. Uemura, T. Araki, M. Sugitani, K. Kojima, and M. Tsubouchi Jpn. J. Appl. Phys., accepted
- "Surface Patterning of Photocurable Resin Using Micro-Moses Effect" M. Sugitani, M. Kumakura, T. Kimura J. Photopol. Sci. Technol., 20 (1), pp. 113-114
Research Topics
- Determination of Surface Area and Porosity of Small, Nanometer-Thick Films by Quartz Crystal Microbalance Measurement of Gas Adsorption? Aoki, Y.; Hashizume, M.; Onoue, S.; Kunitake, T.J. Phys. Chem. B.; 2008; DOI: 10.1021/jp801919h
- Rapid Fabrication of a Smooth Hollow-Spheres Array Sachiko Matsushita, Shigenori Fujikawa, Shinya Onoue, Toyoki Kunitake and Masatsugu Shimomura Bulletin of the Chemical Society of Japan, Vol. 80 (2007) No. 6 pp.1226-1228
- Efficient proton conduction in dry nanofilms of amorphous aluminosilicate Yoshitaka Aoki, Emi Muto, Shinya Onoue, Aiko Nakao and Toyoki Kunitake, Chem. Commun., 2007, 2396
- 在2006年微電子技術專題研討會(于大阪大學)上上村太一研究員榮獲了優秀論文獎。
- 在2005年環太平洋國際化學會議(于夏威夷檀香山)的學生海報設計比賽(Student Poster Competition)上上村太一研究員榮獲了海報獎。
- 在“產業交流展2003”上以“液晶滴下工藝用主密封劑”榮獲東京都創新技術優秀獎。
- 尾上慎彌研究員的項目被日本科學技術振興機構的戰略性創造事業(先驅研究)采納。研究主題(2002~2006年)為“集成-融合放大型納米粒子傳感系統的開發”
開放實驗室
成為共同研究與評價基地/技術聯盟的基地
通過與國內外的大學、國立研究所、企業的合作,探索未來的技術種子。
研發中心的部分樓層作為開放實驗室對外開放。